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直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。

所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。


直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測(cè)量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口 ;KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口


詳情:

規(guī)格參數(shù)

  • 行業(yè)分類:

    儀器儀表/專用儀器儀表/化工儀表

  • 產(chǎn)品類別:

  • 品  牌:

    鄭科探

  • 規(guī)格型號(hào):

    KT-Z1650PVD

  • 庫(kù)  存:

    68

  • 生 產(chǎn) 商:

    鄭科探

  • 產(chǎn)  地:

    中國(guó)河南省鄭州市

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