一、基礎(chǔ)配置 ?真空室? 尺寸：Ф1550×1800mm，材質(zhì)為SUS304不銹鋼，具備高耐腐蝕性和密封性?。 工件架：直徑Ф1400mm，轉(zhuǎn)速10-30rpm可調(diào)，支持多類型基板均勻鍍膜?。 ?射頻源與蒸發(fā)源? 搭載23寸射頻離子源（RF離子源），通過高密度離子電流提升膜層致密性和耐摩擦性（通過4萬(wàn)次摩擦試驗(yàn)）?。 蒸發(fā)系統(tǒng)采用雙電子槍（16F型號(hào)），搭配12穴環(huán)形坩堝及熱阻蒸裝置，支持復(fù)雜多層鍍膜（100層以上）?。 ?排氣系統(tǒng)? 組合式設(shè)計(jì)：機(jī)械泵（275/SV630型號(hào)）+ 羅茨泵（愛德華品牌）+ 擴(kuò)散泵及低溫冷凝器（POLYCOLD），極限真空度≤7.0×10??Pa，抽氣至工作真空僅需15分鐘?。 ?膜厚監(jiān)控? 集成HOM2R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀，波長(zhǎng)范圍350-1100nm，搭配6點(diǎn)式水晶傳感器和晶控系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精度控制?。 

二、技術(shù)參數(shù) ?真空性能?：極限真空≤7.0×10??Pa，抽氣時(shí)間≤15分鐘?。 ?鍍膜層數(shù)?：支持100層以上復(fù)雜鍍膜工藝?。 ?電子槍配置?：雙電子槍（日本電子16F型號(hào)），支持多點(diǎn)及環(huán)型坩堝?。 ?傳感器系統(tǒng)?：XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器，實(shí)時(shí)監(jiān)控鍍膜過程?。 

三、應(yīng)用領(lǐng)域 ?光學(xué)薄膜?：包括AR膜（抗反射膜）、AF膜（防指紋膜）及AS膜（防污膜）?。 ?工業(yè)應(yīng)用?：適用于光學(xué)器件、觸摸屏、鏡頭、顯示面板等領(lǐng)域的鍍膜需求?。

 四、售后服務(wù) 提供安裝調(diào)試、工藝培訓(xùn)及設(shè)備維護(hù)支持?。 設(shè)備支持租賃或購(gòu)買，可根據(jù)需求靈活選擇?。 

五、設(shè)備優(yōu)勢(shì) ?高精度?：結(jié)合光學(xué)監(jiān)控與晶控系統(tǒng)，確保膜層均勻性?。 ?高效穩(wěn)定?：雙電子槍與射頻離子源組合，提升鍍膜效率與膜層耐久性?。 ?模塊化設(shè)計(jì)?：真空室、排氣系統(tǒng)等組件可根據(jù)工藝需求擴(kuò)展或調(diào)整?